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快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t

快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t

所屬類別:定制定做紅外輻射加熱器
產(chǎn)品描述:我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點(diǎn),控制部分采用智能化控溫系統(tǒng),可控硅控制,爐體為雙層爐殼,采用水冷系統(tǒng)/風(fēng)冷系統(tǒng),延長加熱元件壽命。
銷售/服務(wù)范圍:許昌市紅外技術(shù)研究所有限公司是一家生產(chǎn)銷售紅外輻射加熱的公司,歡迎咨詢紅外輻射加熱相關(guān)問題。
產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

 我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件,采用紅外線鏡面反射技術(shù),成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點(diǎn),控制部分采用智能化控溫系統(tǒng),可控硅控制,爐體為雙層爐殼,采用水冷系統(tǒng)/風(fēng)冷系統(tǒng),延長加熱元件壽命。

                  

拋物線聚焦圖例             橢圓聚焦圖例

二、技術(shù)參數(shù):

1、最高溫度:1700℃,長期使用溫度:1600℃(注:理論最高溫度和實(shí)際最高溫度取決于試樣材料。)
    2、最高區(qū)間升溫速率:>280℃/s;  
    3、電壓功率:220(380)V;6-36kw;
    4、加熱方式:紅外輻射加熱;
    5、加熱區(qū)間:點(diǎn)、線(柱狀)、面加熱;
    6、反射面冷卻方式:水冷;
    7、控溫精度:±1℃;
    8、溫度顯示精度:0.1℃;
    9、控制方式:配備智能溫控儀表,可控硅控制,可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫。

三、主要功能和特點(diǎn)

1、可擴(kuò)展在真空/不同氣氛/不同環(huán)境下,對(duì)不同產(chǎn)品、樣品進(jìn)行快速熱處理;

2、溫控精度高;

3、適合高校、科研院所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室使用;

4、操作方便,試樣裝取容易;

5、價(jià)格合理,性價(jià)比高。

四、主要用途

1、電子材料

1)硅(Si)和化合物半導(dǎo)體的實(shí)時(shí)分析器(RTA);

2)薄膜成型的熱源;

3)離子注入后的激活器;

4)硅化物成型的熱源。

2、陶瓷材料/無機(jī)材料

1)陶瓷基片層壓板的退火爐;

2)玻璃基片的退火爐;

3)陶瓷拉伸、彎曲試驗(yàn)的退火爐;

4)超導(dǎo)陶瓷的退火爐;

5)陶瓷加熱、循環(huán)加熱試驗(yàn)的退火爐。

3、鋼制材料/金屬材料

1)薄鋼板加熱過程分析爐;

2)焊接分析爐;

3)高溫(1000℃以下)真空加熱試驗(yàn)爐;

4)大氣條件熔化過程分析爐;

5)高壓下,難熔鋼和鋁循環(huán)加熱試驗(yàn)爐;

4、復(fù)合材料

1)絕熱性評(píng)估測(cè)試用爐;

2)無機(jī)化合物循環(huán)加熱試驗(yàn)爐。

5、其他

1)高溫條件下,拉伸、壓縮試驗(yàn)用爐;

2)分段控制爐;

3)溫度梯度爐;

4)析出氣體分析爐。

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